直流等离子体喷射 CVD 设备

产品概览

该设备主要用于开发高质量、大面积的钻石薄膜产品，主要用于工业应用，如研磨轮磨具坯料、电线拉丝模芯坯料、光学窗口和散热基材等。这一系列设备广泛应用于高校和科研机构的教学和研究实验，以及处于早期探索阶段的实验和技术型制造中高质量的钻石薄膜产品的开发。企业。.

产品介绍

设备特点：

★PLC + 触摸屏界面，具备全面的逻辑锁止保护功能

★红外温度计固定装置安装在框架顶部，固定了温度计的位置，方便了轻松的上下移动。

★该设备能够成功制备直径达 φ85mm、厚度为 0.1-4mm 的大面积高质量钻石薄膜。.

设备参数：

★V真空室：圆柱形固定式真空室，尺寸约为 Ф400mm×H500mm/Ф650mm×H500mm

★生长阶段：沉积阶段 80mm，高度 110mm；沉积阶段 100mm，高度 110mm

★泵送速度：从大气压到1Pa ≤ 20分钟